“第十一届世界制药原料中国展”(CPhI, ICSE & BioPh China 2011)暨“2011世界制药机械、包装设备与材料中国展”(P-MEC China 2011)将于2011年6月21日至23日在上海新国际博览中心举办
公司展位号E1C05，届时将携干湿二合一激光粒度仪HELOS/OASIS(测试范围0.1-3500μm)、动态粒度粒形分析仪QICPIC(测试范围1-20000μm)、纳米激光粒度仪NANOPHOX(测试范围1-10000nm)、超声衰减粒度仪OPUS(0.01-3000μm)，并有德国专家及中国工程师在现场为您做专业的介绍与解答。
德国新帕泰克专利的干湿二合一粒度仪HELOS/OASIS，结合干法与湿法测试的双重优点，分散效果好、测试速度快、准确性与精度高。
动态粒度粒形仪QICPIC在分析粒度分布信息的基础上，提供粒形信息，为以颗粒形态为表征的行业与分析研究院提供了包括球形度、长宽比、纤维长度等更多参数的信息。
纳米粒度仪NANOPHOX使用PCCS的原理，消除多重散射的影响，测试浓度高，准确性好，同时提供稳定性分析，是分析纳米粉体的最佳选择。
诚挚欢迎各界人士的莅临展位交流！
